激光直写机

发布者:admin4发布时间:2013-08-07作者:浏览次数:1425


1.仪器的基本信息:
仪器名称:激光直写仪
英文名称:Laser Lithography System
型号:μPG501
产地:德国
购买时间:2013年
存放地点:微纳加工与生物医学工程中心光刻间
管理人员:何荣祥
联系电话:027-84223798

2.仪器的用途:
    激光直写仪是纳米压印光刻和纳米结构制备的关键设备,它采用机械模具微复型原理来代替包含光学、化学及光化学反应机理的传统复杂光学光刻,从而进行纳米图形加工和纳米微结构制造。

3.仪器的性能指标:
1)具有光刻胶直写模式;
2)分辨率1μm;制版直写速度50 mm²/min;网格精度100 nm;位置控制分辨率20 nm;
3)衬底:大小5’’x5’’;厚度0-6 mm;
4)具有128级厚光刻胶进行灰度曝光的3D曝光模式;
5)对准套刻模式;
6)多格式数据支持 (GDSII, DXF, CIF, BMP);
7)10 W,370 nm LED光源;
8)支持SU8厚膜光胶直写能力,膜厚150μm。

4.结果展示: