1.仪器的基本信息：
仪器名称：激光直写仪
英文名称：Laser Lithography System
型号：μPG501
产地：德国
购买时间：2013年
存放地点：微纳加工与生物医学工程中心光刻间
管理人员：何荣祥
联系电话：027-84223798
2.仪器的用途：
激光直写仪是纳米压印光刻和纳米结构制备的关键设备，它采用机械模具微复型原理来代替包含光学、化学及光化学反应机理的传统复杂光学光刻，从而进行纳米图形加工和纳米微结构制造。
3.仪器的性能指标：
1）具有光刻胶直写模式；
2）分辨率1μm；制版直写速度50 mm²/min；网格精度100 nm；位置控制分辨率20 nm；
3）衬底：大小5’’x5’’；厚度0-6 mm；
4）具有128级厚光刻胶进行灰度曝光的3D曝光模式；
5）对准套刻模式；
6）多格式数据支持 (GDSII, DXF, CIF, BMP)；
7）10 W，370 nm LED光源；
8）支持SU8厚膜光胶直写能力，膜厚150μm。
4.结果展示：
