1.仪器的基本信息：
仪器名称：反应离子刻蚀机
英文名： Reaction Ions Etching machine
型号：RIE-801
产地：中国
购买时间：2013年
存放地点：微纳加工与生物医学工程中心超净间
管理人员：何荣祥
联系电话：027-84223798
2.仪器的用途：
可实现Si、SiO2、Si3N4、GaAs、聚酰亚胺、光刻胶、半导体材料等刻蚀，制备各种微纳结构器件，在生物、化学、医学等领域有着广泛应用。
3.仪器的性能指标：
1）极限真空：优于9.0×10-5 Pa（环境湿度≤55%，系统经烘烤除气）
2）刻蚀材料：Si、SiO2、Si3N4等
3）刻蚀速率：0.1～1μm/min
4）刻蚀不均匀性：优于±5%
5）反应室规格: Φ350×110 mm
6）电极尺寸：Φ220 mm；有效样片尺寸：Φ8英寸。
4.结果展示：
SF6刻蚀Si衬底，刻蚀时间6分钟。
