离子反应刻蚀机

发布者:admin4发布时间:2014-03-20作者:浏览次数:455

1.仪器的基本信息:
仪器名称:反应离子刻蚀机
英文名: Reaction Ions Etching machine
型号:RIE-801
产地:中国
购买时间:2013年
存放地点:微纳加工与生物医学工程中心超净间
管理人员:何荣祥
联系电话:027-84223798

2.仪器的用途:
可实现Si、SiO2、Si3N4、GaAs、聚酰亚胺、光刻胶、半导体材料等刻蚀,制备各种微纳结构器件,在生物、化学、医学等领域有着广泛应用。

3.仪器的性能指标:
1)极限真空:优于9.0×10-5 Pa(环境湿度≤55%,系统经烘烤除气)
2)刻蚀材料:Si、SiO2、Si3N4等
3)刻蚀速率:0.1~1μm/min
4)刻蚀不均匀性:优于±5%
5)反应室规格: Φ350×110 mm
6)电极尺寸:Φ220 mm;有效样片尺寸:Φ8英寸。

4.结果展示:
SF6刻蚀Si衬底,刻蚀时间6分钟。